发明名称 真空処理装置
摘要 【課題】 真空容器の容積を省スペースにしつつ、真空容器内を大気解放することなく、マスク交換できるスパッタリング装置を提供すること。【解決手段】真空容器2内で処理対象物7を真空処理室15とロードロック室との間で搬送する搬送機構5は、真空処理室15で処理対象物7に真空処理を行うときには、処理対象物7を処理対象物保持部8に保持した状態で搬送する。一方、真空処理室15における真空処理時に真空処理源50と処理対象物7との間に設けられるマスク30をマスク固定部40に対して着脱するときには、搬送機構5は、マスク搬送部材90を介して処理対象物保持部8にマスク30を保持した状態で搬送し、マスク着脱手段80によってマスク固定部40に対してマスク30の着脱を行なう。【選択図】 図3
申请公布号 JP2017057444(A) 申请公布日期 2017.03.23
申请号 JP20150181434 申请日期 2015.09.15
申请人 芝浦メカトロニクス株式会社 发明人 加茂 克尚;小林 憲明
分类号 C23C14/56 主分类号 C23C14/56
代理机构 代理人
主权项
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