レジスト材料及びパターン形成方法

摘要

【課題】ポジ型レジスト材料においてもネガ型レジスト材料においても溶解コントラストが大きく、かつエッジラフネスを小さくでき、露光後のポストエクスポージャーベークと現像の間の放置時間においても寸法変化が生じることがないレジスト材料、及びこれを用いるパターン形成方法を提供する。【解決手段】下記式（Ａ）で表されるスルホニウム塩、及びベースポリマーを含むレジスト材料。【選択図】なし