发明名称 光半導体素子及びその製造方法
摘要 量子ドットレーザは、GaAs基板(1)と、GaAsをバリア層とした量子ドットを有する量子ドット活性層(2a)と、量子ドット活性層2aに接合されたGaAs導波路コア層(2b)と、量子ドット活性層(2a)及びGaAs導波路コア層(2b)を挟持する下側クラッド層(3)及び上側クラッド層(4)とを備えており、GaAs導波路コア層(2b)は、量子ドット活性層の先端から延在し、量子ドット活性層部(2a)の先端から離れるにつれて厚みが漸減すると共に、下側クラッド層(3)及び上側クラッド層(4)は、夫々、第1クラッド層(3a,4a)と、第1クラッド層(3a,4a)よりも光導波層(2)から離れた側に配された第2クラッド層(3b,4b)との積層構造とされ、第1クラッド層(3a,4a)は、第2クラッド層(3b,4b)よりも屈折率が高い。この構成により、光出射端の光モード径を広げて出力光の放射角を狭くするも、光モード径の必要以上の拡張を抑制して光の染み出しを抑え、十分な光出力が得られる。
申请公布号 JPWO2015104836(A1) 申请公布日期 2017.03.23
申请号 JP20150556693 申请日期 2014.01.10
申请人 富士通株式会社 发明人 高林 和雅;山本 剛之;木村 徳治
分类号 H01S5/343 主分类号 H01S5/343
代理机构 代理人
主权项
地址