チオール−エン組成物用安定化剤

摘要

本発明は、チオール−エン組成物用安定化剤及びそれに基づく放射線硬化性チオール−エン組成物に関する。このような放射線硬化性組成物は、３Ｄ物体作製のための並びにソルダーレジスト及びゲルネイル作製のためのインク、オーバープリントワニス、コーティング、接着剤にて有利に使用することができる。具体的には、ものに基づくチオール−エン組成物用阻害剤システム（Ｉ）を提供する：・少なくとも９０％の％ＤＰＰＨラジカル消去活性を有する少なくとも１種の阻害剤化合物（ｉ）であって、前記阻害剤化合物（ｉ）が、ベンゼン又はナフタレン環に直接結合したヒドロキシル基及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも２つの置換基を含有する置換ベンゼン化合物又は置換ナフタレン化合物から選択されるもの；・１〜３のｐＫａを有する少なくとも１種の酸性化合物（ｉｉ）；及び・ホスフィット及びホスホニットからなる群から選択される少なくとも１種の化合物（ｉｉｉ）；ただし、前記阻害剤化合物（ｉ）が置換ベンゼンである場合、それは前記ベンゼン環に直接結合した少なくとも２つのヒドロキシル基を含有する。更に、以下のものに基づくチオール−エン組成物用阻害剤システム（ＩＩ）も提供する：・少なくとも９０％の％ＤＰＰＨラジカル消去活性を有する少なくとも１種の阻害剤化合物（ｉ）であって、前記阻害剤化合物（ｉ）が、ベンゼン又はナフタレン環に直接結合したヒドロキシル基及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも２つの置換基を含有する置換ベンゼン化合物又は置換ナフタレン化合物から選択されるもの；・スピロホスフィットからなる群から選択される少なくとも１種の化合物（ｉｖ）、及び・任意選択で、１〜３のｐＫａを有する少なくとも１種の酸性化合物（ｉｉ）、ただし、前記阻害剤化合物（ｉ）が置換ベンゼンである場合、それは前記ベンゼン環に直接結合した少なくとも２つのヒドロキシル基を含有する。