发明名称 参照画像作成用の基準データ作成方法及びパターン検査装置
摘要 【課題】参照画像の作成精度を向上させることが可能な基準データの作成方法を提供する。【解決手段】参照画像作成用の基準データ作成方法は、検査対象基板の検査領域の中から複数の補助パターンのうちの少なくとも1つの補助パターンを含む可能性が高い小領域をユーザに選択させる工程S110と、基となる設計データに基づいて、選択された小領域内に配置されるパターンを画像展開した展開画像を作成する工程S114と、選択された小領域の光学画像と選択された小領域の展開画像とを用いて、選択された当該小領域を、参照画像を作成するための基準領域に設定するかどうかを判定する工程S122と、判定の結果、選択された当該小領域を基準領域に設定する場合に、選択された当該小領域の光学画像のデータと選択された当該小領域の展開画像のデータとを参照画像作成用の基準データとして出力する工程S128と、を備える。【選択図】図5
申请公布号 JP2017058190(A) 申请公布日期 2017.03.23
申请号 JP20150181783 申请日期 2015.09.15
申请人 株式会社ニューフレアテクノロジー 发明人 長田 浩司;井上 貴文;礒部 学;渡辺 利之
分类号 G01N21/956;G01B11/24;G01N21/93;G03F1/84;H01L21/66 主分类号 G01N21/956
代理机构 代理人
主权项
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