发明名称 透光性ガスバリア組成物及び硫化防止層、並びに前記硫化防止層を備える光半導体装置及びその製造方法
摘要 【課題】硫化抑制のために使用する透光性ガスバリア組成物及び硫化防止層、並びに前記硫化防止層の形成により硫化に起因する輝度低下を抑制できる高出力の光半導体装置及びその製造方法を提供する。【解決手段】本発明の透光性ガスバリア組成物は、無機粒子、硬化性透明樹脂、及び有機溶剤を含有し、前記有機溶剤を含む溶媒において分散性に優れる塗布型であり、金属の硫化を抑制する目的で、光半導体装置に反射板として使用される金属の上層に備える硫化防止層を形成するために使用される。透光性ガスバリア組成物に含まれる無機粒子は、板状形状を有し、アスペクト比が100を超え20000以下であることが好ましい。この硫化防止層を備える光半導体装置は、硫化による輝度低下だけでなく、硫化防止層が耐熱性と接着性に優れるため、LEDの発熱によるめっき層の変色を抑制することができる。【選択図】図1
申请公布号 JP2017057339(A) 申请公布日期 2017.03.23
申请号 JP20150185151 申请日期 2015.09.18
申请人 日立化成株式会社 发明人 山浦 格;東内 智子;鯉渕 滋
分类号 C09D201/00;C08K3/00;C08L101/12;C09D5/00;C09D7/12;C09D127/12;C09D133/00;C09D163/00;C09D175/04;C09D183/04;H01L23/29;H01L23/31;H01L33/54;H01L33/60;H01L33/62 主分类号 C09D201/00
代理机构 代理人
主权项
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