发明名称 半導体素子の製造方法および製造装置
摘要 【課題】ペロブスカイト構造を有し、変換効率の高い半導体素子の製造方法と製造装置の提供。【解決手段】ペロブスカイト構造を有する活性層を具備する半導体素子の製造方法であって、前記活性層を、ペロブスカイト構造の前駆体化合物と前記前駆体化合物を溶解し得る有機溶媒とを含む塗布液を前記第一の電極または第二の電極の上に、直接または間接に塗布して塗膜を形成させ、前記塗膜中におけるペロブスカイト構造の形成反応が完了する前に、前記塗膜にガスの吹き付けを開始することを特徴とする半導体素子の製造方法と、それを利用する半導体素子製造装置。【選択図】図2
申请公布号 JP2017059643(A) 申请公布日期 2017.03.23
申请号 JP20150182262 申请日期 2015.09.15
申请人 株式会社東芝 发明人 五反田 武志;森 茂彦;松井 明洋;大岡 青日
分类号 H01L51/48;H01L51/46;H05B33/10;H05B33/14 主分类号 H01L51/48
代理机构 代理人
主权项
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