| 发明名称 | 具有键合至产酸剂的感光剂的新光刻胶 | ||
| 摘要 | 本发明涉及光刻胶以及使用光刻胶实施光刻工艺的方法。光刻胶包括聚合物以及光生酸剂。光生酸剂包括感光剂组分、产酸剂组分和键合所述感光剂组分与所述产酸剂组分的键合组分。键合组分可为单键或共轭键。光刻工艺可为EUV光刻工艺或电子束光刻工艺。本发明涉及一种具有键合至产酸剂的感光剂的新光刻胶。 | ||
| 申请公布号 | CN106527046A | 申请公布日期 | 2017.03.22 |
| 申请号 | CN201610669564.3 | 申请日期 | 2016.08.15 |
| 申请人 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 发明人 | 陈彦豪;王建惟 |
| 分类号 | G03F7/004(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/004(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人 | 章社杲;李伟 |
| 主权项 | 一种光刻胶，包括聚合物；以及光生酸剂，包括：感光剂组分；产酸剂组分；以及键合组分，将所述感光剂组分键合至所述产酸剂组分。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹 | ||