空间抗辐照玻璃盖片的一次连续式制备工艺

摘要

空间抗辐照玻璃盖片的一次连续式制备工艺，属于航天装备的配套产品技术领域，本工艺是借助一次成型系统实现的，该系统中包括沿玻璃液流动方向依次设置的电熔窑、由竖直上升道与水平主料道组成的澄清均化用通道，与澄清均化用通道连接的成型机及退火窑，在此基础上，所述的工艺步骤中包括：玻璃配料→电熔窑熔制→澄清均化→拉制成型→精密退火→按所需尺寸裁切→检验、包装出厂。本发明工艺为直接一次拉制0.02‑0.12mm的超薄玻璃，根据使用尺寸进行切割，能一次生产大尺寸的空间抗辐照玻璃盖片。减少了制造工序，本发明的利用电熔窑一次连续生产空间抗辐照玻璃盖片的方法成品率高，成本低。

主权项

空间抗辐照玻璃盖片的一次连续式制备工艺，其特征在于：本工艺是借助一次成型系统实现的，该系统中包括沿玻璃液流动方向依次设置的电熔窑(1)、由竖直上升道(5)与水平主料道(7)组成的澄清均化用通道，与澄清均化用通道连接的成型机(10)及退火窑(12)，在此基础上，所述的工艺步骤中包括：A、据盖片的性能及熔制、成型工艺要求，设计玻璃配方，该玻璃配方中各组分以质量百分含量计如下：SiO₂ 58‑60％,Al₂O₃ 2‑3％,B₂O₃ 9‑11％,CaO 1‑2％,ZnO 1.5‑2.5％,MgO 4‑5％,Na₂O 4.5‑5.5％,SrO 3.5‑4.5％,K₂O 3‑4％,CeO₂5‑6％,Li₂O 0.3‑0.6％,Sb₂O₃ 0.05‑0.15％；B、熔化：将上述组分混合均匀后加入电熔窑(1)中，熔化温度为1450‑1550℃，熔化时间为24h；C、澄清均化：熔化好的玻璃液(2)通过流液洞(4)依次进入竖直上升道(5)和水平主料道(7)进行澄清均化，澄清均化温度范围为1560‑1580℃，时间为30‑40h；D、成型：经澄清均化好的玻璃液(2)进入成型机(10)一次水平拉制成型，成型温度控制在1100‑1250℃之间，拉引速度为20‑80m/h，玻璃厚度为0.02‑0.12mm；E、退火：成型后的玻璃带(11)进入退火窑进行退火，退火温度为530‑560℃，退火时间为20‑30h；F、切割、包装出厂：退火完成后的玻璃盖片(15)根据所需要的尺寸进行切割，检验合格后包装出厂。