一种分子印迹检测2,4‑d用传感器的制备方法及应用

摘要

一种分子印迹检测2,4‑d用传感器的制备方法及应用，涉及分子印迹传感器的制备及应用技术领域。超声条件下将分级多孔二氧化硅球分散于去离子水中，然后滴涂于洁净的玻碳电极表面，经干燥后再滴涂萘酚，取得萘酚保护的分级多孔二氧化硅球电极；将萘酚保护的分级多孔二氧化硅球电极置于由2,4‑d和邻苯二胺组成的沉积液中进行沉积处理后再置于由甲醇和乙酸组成的混合溶液中，洗脱2,4‑二氯苯氧乙酸，取得分子印迹检测2,4‑d用传感器。本发明能够印迹更多的2,4‑d分子位点，从而提高检测的灵敏度，此外，分级多孔二氧化硅球具有较好的生物相容性，原料易得，成本低廉等特点。

主权项

一种分子印迹检测2,4‑d用传感器的制备方法，其特征在于包括以下步骤：1）超声条件下，将分级多孔二氧化硅球分散于去离子水中，取得分级多孔二氧化硅球水分散剂；2）将分级多孔二氧化硅球水分散剂滴涂于洁净的玻碳电极表面，经干燥后再滴涂萘酚，取得萘酚保护的分级多孔二氧化硅球电极；3）将萘酚保护的分级多孔二氧化硅球电极置于由2,4‑d和邻苯二胺组成的沉积液中进行沉积处理后再置于由甲醇和乙酸组成的混合溶液中，洗脱2,4‑二氯苯氧乙酸，取得分子印迹检测2,4‑d用传感器。