发明名称 制备铜锡硫或铜锡硫硒薄膜的方法
摘要 本公开提供了一种制备铜锡硫或铜锡硫硒薄膜的方法,所述方法包括以下步骤:步骤一:清洗衬底,以获得清洁衬底;步骤二:在步骤一所述清洁衬底上以任意顺序通过溶液沉积法连续交替沉积SnS薄膜和Cu薄膜;步骤三:在硫气氛或者硒气氛下,将步骤二得到的含有Sn元素和Cu元素薄膜的叠层进行热处理,得到铜锡硫或铜锡硫硒薄膜。
申请公布号 CN105047753B 申请公布日期 2017.03.22
申请号 CN201510354656.8 申请日期 2015.06.24
申请人 中国科学技术大学 发明人 朱长飞;王亚光;李建民;刘伟丰;江国顺
分类号 H01L31/18(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;H01L21/477(2006.01)I 主分类号 H01L31/18(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 刘宇
主权项 一种制备铜锡硫或铜锡硫硒薄膜的方法,所述方法包括以下步骤:步骤一:清洗衬底,以获得清洁衬底;步骤二:在步骤一所述清洁衬底上以任意顺序通过溶液沉积法连续交替沉积SnS薄膜和Cu薄膜;步骤三:在硫气氛或者硒气氛下,将步骤二得到的含有Sn元素和Cu元素薄膜的叠层进行热处理,得到铜锡硫或铜锡硫硒薄膜,其中所述沉积SnS薄膜使用包含以下各项的沉积液:亚锡盐、络合剂、含硫化合物以及碱性pH调节液,其中所述亚锡盐选自氯化亚锡、草酸亚锡或硫酸亚锡中的一种或几种;和/或所述亚锡盐在沉积SnS薄膜所使用的沉积液中的浓度为0.02‑0.12M;和/或所述络合剂为三乙醇胺;和/或所述络合剂在沉积SnS薄膜所使用的沉积液中所占体积分数为2%至8%;和/或所述含硫化合物选自硫代乙酰胺、硫代硫酸钠或者硫脲中的一种或几种;和/或所述含硫化合物在沉积SnS薄膜所使用的沉积液中的浓度为0.06‑0.12M;和/或所述碱性pH调节液选自氨水、NaOH以及KOH溶液中的一种或几种;和/或沉积SnS薄膜所使用的沉积温度为25至60℃;和/或沉积SnS薄膜所持续的沉积时间为3小时至8小时。
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