包括带状磁铁的等离子产生源及利用此的薄膜沉积系统

摘要

本发明涉及等离子体产生源及其应用，在高真空下产生均匀的高密度等离子体，并将这种等离子产生源应用于溅射装置、中性粒子束产生源、组合溅射装置和中性粒子束产生源形成的薄膜沉积系统之中，以用于得到高品质薄膜。根据本发明，利用由一对以上的带状磁铁产生的磁场和由微波照射装置照射的微波产生等离子体，根据所述带状磁铁的连续结构，诱导电子的回归轨迹，由此能够极大化等离子体的约束效果而实现本发明目的。

主权项

一种等离子体产生源，其特征在于，包括：等离子体腔，形成等离子体产生空间；一对以上的带状磁铁，以包围所述等离子体腔外壁的形态配置；以及微波照射装置，向所述等离子体产生空间照射微波，所述带状磁铁具有连续的磁铁排列，因此由带状磁铁形成的磁场在等离子体产生空间中连续，所述等离子体腔和微波照射装置包括环形波导管，其中，所述波导管包括狭缝，所述等离子体腔和所述微波照射装置通过没有设置介电体窗口的照射微波的所述狭缝相互连通，所述等离子体腔和所述微波照射装置能够一起被真空化，所述微波照射装置将微波以脉冲模式或者连续模式进行照射而调整照射方向，以将微波照射成使微波的电场与由一对以上的带状磁铁在等离子体产生空间形成的磁场的方向垂直，从而形成电子回旋共振等离子体，从而依据磁场分布提高等离子体密度。