| 发明名称 | 碳化硅硬质膜的制备方法及玻璃 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种碳化硅硬质膜的制备方法及玻璃，该方法以碳原子数为1～4的有机气体为反应气体，以含有氩气的气体为工艺气体，采用硅靶作为溅射靶材，控制反应温度为100℃～300℃，在衬底上磁控溅射沉积碳化硅硬质膜。这种方法能够制备厚度为<img file="DDA0001171060910000011.GIF" wi="157" he="62" />以下的较薄的碳化硅硬质膜，膜层厚度远小于纳米级别，可明显提升玻璃表面的硬度，改善玻璃表面抗划伤性能，有效保护玻璃基板。 | ||
| 申请公布号 | CN106521443A | 申请公布日期 | 2017.03.22 |
| 申请号 | CN201611104056.7 | 申请日期 | 2016.12.05 |
| 申请人 | 宜昌南玻显示器件有限公司 | 发明人 | 何建军;魏宇新;方凤军;江涛;陈多;洪蒙 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C03C17/22(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/35(2006.01)I |
| 代理机构 | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人 | 徐春祺 |
| 主权项 | 一种碳化硅硬质膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：提供衬底；以及将所述衬底置于磁控溅射设备腔体内，真空条件下，以含有碳原子数为1～4的有机气体为反应气体，以含有氩气的气体为工艺气体，采用硅靶作为溅射靶材，控制反应温度为100℃～300℃，在所述衬底上磁控溅射沉积碳化硅硬质膜。 | ||
| 地址 | 443000 湖北省宜昌市大连路38号 | ||