纳米转印方法及纳米功能器件

摘要

本发明公开了一种纳米转印方法及纳米功能器件，其中，纳米转印方法包括如下步骤：S1.在柔性金属基板上涂布光刻胶；S2.对所述涂布光刻胶的柔性金属基板进行光刻，形成沟槽图形；S3.第一次电铸处理，形成图形电极；S4.第二次电铸处理，形成转印层；S5.通过卷对平转印模式，控制所述柔性金属基板，在相应承接基板上转印形成纳米结构材料层。本发明可在同一基板上实现不同材质的纳米电极或纳米结构功能区的转印，或者在同一基板相同区域实现多层复合结构纳米电极和功能区的转印。其利用金属基底上的图形电极作为转移模具，通过电沉积工艺，在转印模具的电极上形成纳米级材料层，并将模具上纳米级材料层转移到相应的柔性基板表面。

主权项

一种纳米转印方法，其特征在于，所述纳米转印方法包括如下步骤：S1.在柔性金属基板上涂布光刻胶；S2.对所述涂布光刻胶的柔性金属基板进行光刻，在柔性金属基板表面形成沟槽图形，显影并露出光刻胶底部的柔性金属基板；S3.将经过步骤S2处理的柔性金属基板放入第一电铸槽中，进行第一次电铸处理，在沟槽中生长突伸出的金属电极层，对所述金属电极层表面进行钝化处理；S4.将经过步骤S3处理的柔性金属基板放入第二电铸槽中，进行第二次电铸处理，在金属电极层上形成纳米级材料层；S5.将经步骤S4处理的柔性金属基板包覆于辊筒上，使得柔性金属基板的底面与所述辊筒相贴合，通过卷对平转印模式，控制所述柔性金属基板，在相应承接基板上转印纳米材料层。