| 发明名称 | 工艺腔室及半导体工艺设备 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种工艺腔室及半导体工艺设备，通过在腔体上相对设置第一进气口和第二进气口，再利用第一进气口和第二进气口向工艺腔室内以相向方式向工艺腔室内吹扫气体，从而在工艺腔室内产生对流，加快对工艺腔室的清洁，缩短工艺腔室的清洁时间。 | ||
| 申请公布号 | CN106531666A | 申请公布日期 | 2017.03.22 |
| 申请号 | CN201611044444.0 | 申请日期 | 2016.11.22 |
| 申请人 | 上海华力微电子有限公司 | 发明人 | 徐春晖;万成;陈伟 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人 | 吴世华;陈慧弘 |
| 主权项 | 一种工艺腔室，其特征在于，工艺腔室的腔体上具有第一进气口和第二进气口，第一进气口和第二进气口分别设置在工艺腔室的腔体相对面上，通过第一进气口和第二进气口向工艺腔室内以相向方式向工艺腔室内吹扫气体。 | ||
| 地址 | 201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号 | ||