发明名称 感光性転写材料、パターン形成方法およびエッチング方法
摘要 A photosensitive transfer material including a support, a thermoplastic resin layer, and a photosensitive resin composition layer in this order, in which the photosensitive resin composition layer includes a polymer component (A) including a polymer having a constituent unit (a1) that includes a group in which an acid group is protected by an acid-decomposable group and a photoacid generator (B).
申请公布号 JP6100500(B2) 申请公布日期 2017.03.22
申请号 JP20120237163 申请日期 2012.10.26
申请人 富士フイルム株式会社 发明人 伊藤 英明;藤本 進二;河邉 保雅
分类号 G03F7/004;C08F212/14;G03F7/039;G03F7/40;G03F7/42;H01L51/50;H05B33/22 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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