发明名称 量子点薄膜、显示器及量子点薄膜制备方法
摘要 本发明公开了一种量子点薄膜、显示器及量子点薄膜制备方法。其中,量子点薄膜包括一基板、隔离件、子像素对应的量子点层;隔离件设置于基板一表面,定义出对应各个显示像素的填充槽,量子点层形成于填充槽中,至少其中一部分填充槽内的量子点层是单色层。通过上述方式,本发明能够实现使显示器的显示兼顾高色域与高亮度的特性。
申请公布号 CN106526971A 申请公布日期 2017.03.22
申请号 CN201611245926.2 申请日期 2016.12.29
申请人 武汉华星光电技术有限公司 发明人 查国伟
分类号 G02F1/13357(2006.01)I 主分类号 G02F1/13357(2006.01)I
代理机构 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人 钟子敏
主权项 一种量子点薄膜,其特征在于,包括:所述量子点薄膜包括一基板、隔离件、子像素对应的量子点层;所述隔离件设置于所述基板一表面,定义出对应各个显示像素的填充槽,所述量子点层形成于所述填充槽中,至少其中一部分所述填充槽内的所述量子点层是单色层。
地址 430070 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋
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