发明名称 |
量子点薄膜、显示器及量子点薄膜制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种量子点薄膜、显示器及量子点薄膜制备方法。其中,量子点薄膜包括一基板、隔离件、子像素对应的量子点层;隔离件设置于基板一表面,定义出对应各个显示像素的填充槽,量子点层形成于填充槽中,至少其中一部分填充槽内的量子点层是单色层。通过上述方式,本发明能够实现使显示器的显示兼顾高色域与高亮度的特性。 |
申请公布号 |
CN106526971A |
申请公布日期 |
2017.03.22 |
申请号 |
CN201611245926.2 |
申请日期 |
2016.12.29 |
申请人 |
武汉华星光电技术有限公司 |
发明人 |
查国伟 |
分类号 |
G02F1/13357(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/13357(2006.01)I |
代理机构 |
深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 |
代理人 |
钟子敏 |
主权项 |
一种量子点薄膜,其特征在于,包括:所述量子点薄膜包括一基板、隔离件、子像素对应的量子点层;所述隔离件设置于所述基板一表面,定义出对应各个显示像素的填充槽,所述量子点层形成于所述填充槽中,至少其中一部分所述填充槽内的所述量子点层是单色层。 |
地址 |
430070 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋 |