发明名称 |
带有围堰的基板 |
摘要 |
本发明的一个实施方式的带有围堰的基板具备基板、和设于基板上且划分出在基板上预先设定的区划的单层结构的围堰,围堰的位于与基板侧的底面相反一侧的上面的茴香醚的接触角为35°以上,在与基板的板厚方向正交的方向上,将从由围堰的临近区划的侧面和底面规定的围堰端部到有机层锁定位置的距离设为D1、将围堰的厚度设为T1时,D1/T1满足0<D1/T1≤2.0,有机层锁定位置是在上述区划内形成一层有机层的情况下有机层与围堰的界面中的靠近上面的端部的位置。 |
申请公布号 |
CN106531901A |
申请公布日期 |
2017.03.22 |
申请号 |
CN201610803790.6 |
申请日期 |
2016.09.05 |
申请人 |
住友化学株式会社 |
发明人 |
山下和贵;仓田知己;关口泰广 |
分类号 |
H01L51/52(2006.01)I;H01L27/32(2006.01)I |
主分类号 |
H01L51/52(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
葛凡 |
主权项 |
一种带有围堰的基板,其具备:基板、和单层结构的围堰,其设于所述基板上,划分出在所述基板上预先设定的区划,所述围堰的位于与所述基板侧的底面相反一侧的上面的茴香醚的接触角为35°以上,在所述基板的与厚度方向正交的方向,在将由所述围堰的临近所述区划的侧面和所述底面所规定的围堰端部、到有机层锁定位置的距离设为D1,将所述围堰的厚度设为T1时,D1/T1满足0<D1/T1≤2.0,所述有机层锁定位置是在所述区划内形成一层有机层时所述有机层与所述围堰的界面中的靠近所述上面的端部的位置。 |
地址 |
日本国东京都 |