| 发明名称 | 半导体结构、集成电路器件及形成半导体结构的方法 | ||
| 摘要 | 本发明的实施例提供了一种半导体结构、集成电路器件及形成半导体结构的方法。在各个实施例中，半导体结构包括包含高形貌区域和低形貌区域的衬底、邻接低形貌区域的高形貌区域的外部周边部分上的外部保护壁和以及外部保护壁、高形貌区域和低形貌区域上方的抗反射涂层。 | ||
| 申请公布号 | CN106527051A | 申请公布日期 | 2017.03.22 |
| 申请号 | CN201610602228.7 | 申请日期 | 2016.07.28 |
| 申请人 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 发明人 | 马世宪;吴浩铨;蔡士豪;林育诠 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G03F7/16(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I;H01L27/02(2006.01)I;H01L21/82(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人 | 章社杲;李伟 |
| 主权项 | 一种半导体结构，包括：衬底，包括第一形貌区域和第二形貌区域，其中，所述第一形貌区域高于并且紧邻所述第二形貌区域；第一保护壁，位于所述第一形貌区域的第一周边部分上，其中，所述第一形貌区域的第一周边部分邻接所述第二形貌区域；以及抗反射涂层，位于所述第一保护壁、所述第一形貌区域和所述第二形貌区域上方。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹 | ||