光刻刻蚀制造微织构摩擦表面的方法

摘要

本发明公开了一种通过光刻刻蚀制造微织构摩擦表面的方法，可以显著改善表面摩擦性能；由预热、涂胶、预烘、掩模、曝光、烘焙、显影、硬烘、刻蚀、去胶等工艺组成。本发明的方法无需大型设备、工艺简便、图案易控，在减摩润滑材料等领域有重要的应用价值。

主权项

一种光刻刻蚀制造微织构摩擦表面的方法，其特征在于，是由预热、涂胶、预烘、掩模、曝光、烘焙、显影、硬烘、刻蚀、去胶十个工艺操作组成，所述的摩擦表面是指铁基材料的摩擦表面，具体操作步骤如下：1)预热：将铁基材料在100～120℃下预热3～6min；2)涂胶：将S1813光刻胶滴在铁基材料表面铺满，然后将材料放在旋涂机中，将其固定在真空卡盘上，在氮气保护气氛中，分别在300rpm旋转10s，900～1100rpm旋转10s，4000rpm旋转60s；3)预烘：将所得材料在110～120℃预烘2～4min；4)掩模：将所需的模板覆盖在摩擦表面上，其中需要织构部分为透光层，其余部分为黑色吸光层；5)曝光：将覆盖模板的摩擦表面在365nm紫外灯光下曝光5～30min；6)烘焙：去除模板，将所得材料在115～130℃烘焙5～10min；7)显影：将上述材料在质量浓度为2～4％的四甲基氢氧化铵溶液中浸泡1～3min，在去离子水中漂洗20～60s；8)硬烘：然后将其放入110～120℃环境下烘干；9)刻蚀：将材料放入质量浓度为1～4％的稀酸溶液中23～27℃下刻蚀1～10min，取出，用去离子水中漂洗2～5min；10)去胶：将材料放入丙酮中将漂洗2～4次，至涂层胶全溶解，即得微织构摩擦表面。