一种基于亚像素调制提高数字光刻分辨力的方法

摘要

一种基于亚像素调制提高数字光刻分辨力的方法，其特征是在一个多SLM数字光刻系统中，通过五自由度精密调节系统来调整相应SLM投影的相对位置，控制其中任意两个SLM，使其投影到基底的两幅图形在平行于基底平面的两个方向上产生错位，并且错位距离不大于SLM一个像素对应的尺寸，使基于SLM的数字光刻系统制作出小于单像素尺寸的线条，从而基于亚像素调制实现提高SLM数字光刻横向制作分辨力。本发明所述的方法采用多个SLM的投影同时错位叠加曝光的方式，突破由单个SLM像素尺寸限制的最小曝光分辨力，可有效解决数字光刻系统分辨力低的问题，实现高精度数字化光刻制作，大大降低高精度光刻制作成本。

主权项

一种基于亚像素调制提高数字光刻分辨力的方法，其特征在于方法步骤是：由同一个紫外光源系统发出的光通过多个级连的比例分束镜分成若干束光强相同的平面光束，再将各束平面光以固定角度入射到多个SLM，每个SLM调制的图形由计算机独立进行精确控制；然后将所有SLM调制的光耦合到同一个精缩透镜参与曝光成像，以此来实现多个不同的SLM组合在一起同时进行曝光；每个SLM投影到基底上的位置由固定相应SLM的控制系统进行精细调节，控制系统可通过五自由度精密调节系统来调整相应SLM投影的相对位置，以此来控制不同SLM投影间的相对曝光位置；控制其中任意两个SLM，使其投影到基底的两幅图形在平行于基底平面的两个方向上产生错位，并且错位距离不大于SLM一个像素对应的尺寸，从而使基于SLM的光刻系统制作出小于像素尺寸（即亚像素）的线条，实现基于亚像素调制提高数字光刻横向制作分辨力。