发明名称 可消除静电的取放装置
摘要 本发明公开了一种α辐射源在取放装置上的应用,用于消除静电。本发明提供的α辐射源以特定的放射性同位素Am<sup>241</sup>、Po<sup>210</sup>、Pu<sup>238</sup>、Pu<sup>239</sup>与金银复合扎制而成,取放装置采用的是负压拾起物品,正压放下物品,利用本发明α辐射源产生的α射线直接照射产生的电离直接作用于被取放物的表面,以及取放装置放下被取放物时的正压气流将电离的气体作用到被取放物的表面,可达到非常好的消除静电的效果。
申请公布号 CN103763845B 申请公布日期 2017.03.22
申请号 CN201410043954.0 申请日期 2014.01.29
申请人 刘斌 发明人 刘斌
分类号 H05F3/06(2006.01)I;B25B11/00(2006.01)I 主分类号 H05F3/06(2006.01)I
代理机构 深圳市中知专利商标代理有限公司 44101 代理人 国威
主权项 一种可消除静电的取放装置,其特征在于,所述取放装置的负压空腔或真空通路内设置有α辐射源(3),或将α辐射源(3)设置在正对于被取放物的凹槽或负压空腔内;所述α辐射源(3)以放射性同位素与金银复合扎制而成;所述α辐射源(3)包括底层(14)、中层和上层(11);所述底层(14)为银,厚度为100μm以上;所述中层由中间层(12)和包围在中间层(12)侧部周围的封口层(13)组成,所述中间层(12)为放射性同位素或其氧化物,厚度1‐10μm,所述封口层(13)的上下表面与中间层(12)的上下表面平齐,其外侧边缘与底层(14)和上层(11)的外侧边缘对齐,所述封口层(13)为Ni、Ag或Au;所述上层(11)为金膜,金膜厚度为1‐10μm;所述放射性同位素为Am241、Po210、Pu238或Pu239;所述取放装置为贴片机的吸头;所述贴片机的吸头包括吸嘴(1)和连接在吸嘴(1)上端的贴片头部分(2),贴片头部分(2)侧部与真空通路A(4)相连通,上述α辐射源(3)设置在贴片头部分(2)内且位置高于真空通路,所述α辐射源(3)的上层(11)正对吸嘴(1)设置。
地址 518040 广东省深圳市福田区深南大道6007号安徽大厦创展中心2711-12室
您可能感兴趣的专利