金属栅极结构及其形成方法

摘要

本发明提供金属栅极结构及其形成方法。在某些实施例中，基材具有形成在高介电常数介电层中的特征结构，而在基材上形成金属栅极结构的方法可包括下列步骤：在特征结构内，在介电层顶上沉积第一层；在特征结构内，在第一层顶上沉积第二层，第二层包含钴或镍；以及在特征结构内，在第二层顶上沉积第三层以填充特征结构，第三层包含金属，其中第一层及第二层中的至少一层形成湿润层，以形成供后续沉积层所用的成核层，其中第一层、第二层及第三层中的一层形成功函数层，且其中第三层形成栅极电极。

主权项

一种在基材上形成金属栅极结构的方法，该基材具有形成在高介电常数介电层中的特征结构，该方法包含下列步骤：在该特征结构内，在该高介电常数介电层顶上沉积第一层；在该特征结构内，在该第一层顶上沉积第二层，该第二层包含钴或镍；以及在该特征结构内，在该第二层顶上沉积第三层以填充该特征结构，该第三层包含金属，其中该第一层及该第二层中的至少一层形成湿润层，以在该特征结构内提供共形层并作为供后续沉积层所用的成核层，其中该第一层、该第二层及该第三层中的一层形成功函数层，且其中该第三层形成金属栅极电极。