一种真空镀膜隔离装置

摘要

本实用新型涉及一种真空镀膜隔离装置，包括镀膜室，所述镀膜室内腔顶部设有多个隔离罩，所述隔离罩内腔顶部设有离子放射器，所述隔离罩底部设有电磁阀，所述电磁阀下方设有输送装置，所述输送装置底部设有多个限位器，且所述限位器设于相邻的两个隔离罩连接处正下方，所述限位器下方设有电弧溅射源，所述电弧溅射源下方设有多个光口真空泵，且所述光口真空泵设于所述隔离罩正下方，所述镀膜室两端均设有电磁阀门，所述电磁阀门顶部设有抽气口，通过该隔离装置，可以达到快速镀膜，在离子喷镀结束后，通过对各个离子发射源的隔离，有效的去除了不同离子产生的污染，快速恢复真空环境从而节省了整个镀膜的时间，从而提高了镀膜的效率。

主权项

一种真空镀膜隔离装置，包括镀膜室（1），其特征在于，所述镀膜室（1）内腔顶部设有多个隔离罩（2），所述隔离罩（2）内腔顶部设有离子放射器（3），所述隔离罩（2）底部设有电磁阀（4），所述电磁阀（4）下方设有输送装置（5），所述输送装置（5）底部设有多个限位器（6），且所述限位器（6）设于相邻的两个隔离罩（2）连接处正下方，所述限位器（6）下方设有电弧溅射源（7），所述电弧溅射源（7）下方设有多个光口真空泵（8），且所述光口真空泵（8）设于所述隔离罩（2）正下方，所述镀膜室（1）两端均设有电磁阀门（9），所述电磁阀门（9）顶部设有抽气口（10）。