用于检测综合验光仪的光学系统、光学检测装置和方法

摘要

本发明提供了一种用于检测综合验光仪的光学系统、光学检测装置和方法。光学系统包括：分光元件；第一物镜；第一反光元件，第一反光元件设置在分光元件和第一物镜之间；分划板，分划板设置于第一物镜的物方焦点上；调焦元件，第一物镜设置在调焦元件和第一反光元件之间；第二物镜，调焦元件与第二物镜之间的距离可调节；成像元件，成像元件位于分光元件的出射光路中。待检测设备（例如：综合验光仪）放置在第一物镜与第二物镜之间，通过调节调焦元件与第二物镜之间的距离，可以使分划板上基准图案清晰的呈现在成像元件上，根据调节调焦元件与第二物镜之间的距离计算得出待检测设备的性能指标，从而对待检测设备进行量化的判断。

主权项

一种用于检测综合验光仪的光学系统，其特征在于，包括：分光元件（10）；第一物镜（20）；第一反光元件（30），所述第一反光元件（30）设置在所述分光元件（10）和所述第一物镜（20）之间，且所述分光元件（10）和所述第一物镜（20）均位于所述第一反光元件（30）的反射光路中；分划板（40），所述分划板（40）上具有基准图案，所述分划板（40）位于所述分光元件（10）的反射光路中，且所述分划板（40）设置于所述第一物镜（20）的物方焦点上；调焦元件（50），所述第一物镜（20）设置在所述调焦元件（50）和所述第一反光元件（30）之间；第二物镜（60），所述第二物镜（60）设置在所述调焦元件（50）和所述第一物镜（20）之间，所述调焦元件（50）与所述第二物镜（60）之间的距离可调节；成像元件（70），所述成像元件（70）位于所述分光元件（10）的出射光路中。