发明名称 一种改进的真空镀膜设备
摘要 本实用新型涉及一种改进的真空镀膜设备,包括外壳,外壳的内部设有卷绕室和镀膜室,卷绕室中设有放卷辊、放膜过渡辊、第一张力调节辊、第一展平辊、主辊、压辊、第二张力调节辊、导辊、第二展平辊、牵引辊和收券辊,主辊的端部设有轴承座,外壳的外部设有一层绝缘层,轴承座的下方设有绝缘基座,卷绕室中还设有与主辊相配合的弧形摩擦板和第一液压伸缩杆,摩擦板包括弧形绝缘主板,绝缘主板的内侧设有弧形第一摩擦层。该改进的真空镀膜设备利用摩擦板和主辊以及定摩擦轮和动摩擦轮产生静电使得原料膜能够完全与主辊贴合,保证原料膜在蒸镀时金属镀层分散均匀,避免产生疵点,制成的金属化薄膜的质量显著提高。
申请公布号 CN206033872U 申请公布日期 2017.03.22
申请号 CN201620950867.8 申请日期 2016.08.27
申请人 安徽省宁国市海伟电子有限公司 发明人 宋仁祥;宋仁喜;吴义超;谈智勇;汪志彬;宋雪峰
分类号 C23C14/56(2006.01)I 主分类号 C23C14/56(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种改进的真空镀膜设备,包括外壳(1),外壳(1)的内部设置有卷绕室(2)和镀膜室(3),所述卷绕室(2)中设置有放卷辊(21)、放膜过渡辊(22)、第一张力调节辊(23)、第一展平辊(24)、主辊(25)、压辊(26)、第二张力调节辊(27)、导辊(28)、第二展平辊(29)、牵引辊(210)和收券辊(211),所述主辊(25)的端部设置有轴承座(251),主辊(25)中央的转轴与轴承座(251)活动连接;所述镀膜室(3)中设置有送丝机构(31)和蒸发坩埚(32),蒸发坩埚(32)设置在主辊(25)的正下方,其特征在于:所述外壳(1)的外部设置有一层绝缘层(11),所述轴承座(251)的下方设置有绝缘基座(252),绝缘基座(252)与轴承座(251)的下部固定连接;所述卷绕室(2)中还设置有与主辊(25)相配合的弧形摩擦板(4)和第一液压伸缩杆(5),所述摩擦板(4)包括弧形绝缘主板(41),所述第一液压伸缩杆(5)的伸缩端与绝缘主板(41)的顶部固定连接,绝缘主板(41)的内侧设置有弧形第一摩擦层(42),第一摩擦层(42)与绝缘主板(41)固定连接。
地址 242300 安徽省宣城市宁国市汪溪工业园区