可饱和吸收体中的缺陷检测

摘要

一般地描述了用于通过吸光率随着光强度提高而降低的可饱和特性来识别可饱和吸收体(诸如石墨烯)中的缺陷的技术。例如，可在两个完全不同的入射强度下使包覆石墨烯的基板成像两次。在石墨烯中的间隙处，基板可反射与入射强度成比例的光。随着照射强度提高，石墨烯可在反射光上显示出非线性增加。所述两个入射强度之间的差异可揭示石墨烯中的间隙。可利用任何合适的成像技术，诸如共焦显微镜或线性扫描。对于高体积自动检查，可按比例放大成像。

主权项

一种使用可饱和吸收体检测样品中的一个或多个缺陷的方法，包括：获取可饱和吸收体在第一入射强度的明视场电磁辐射下的关于所述可饱和吸收体上的位置的第一反射强度，其中第一反射强度对应于所述可饱和吸收体的第一反射强度图像的一个或多个部分，且其中所述第一反射强度图像的所述一个或多个部分不包括所述一个或多个缺陷；获取所述可饱和吸收体在第二入射强度的所述明视场电磁辐射下的关于所述位置的第二反射强度，第二入射强度大于第一入射强度足以至少部分使所述可饱和吸收体的吸收率值饱和的量，其中所述第二反射强度对应于所述可饱和吸收体的第二反射强度图像的一个或多个部分，且其中所述第二反射强度图像的所述一个或多个部分不包括所述一个或多个缺陷；确定对应于第二入射强度除以第一入射强度的入射强度比；确定关于所述位置的对应于所述第二反射强度图像除以所述第一反射强度图像的反射强度比；将所述反射强度比与所述入射强度比进行比较以识别所述位置处的所述一个或多个缺陷；以及基于所述位置处的第一反射强度和所述位置处的第二反射强度来在所述一个或多个缺陷之间进行区分，其中第一反射强度由于与所述可饱和吸收体中的间隙相关联而被识别为更低的反射率，且其中第二反射强度由于所述可饱和吸收体的非线性吸收而被识别为更大的反射率。