发明名称 静电释放ESD保护结构及含有其的芯片
摘要 本实用新型公开了静电释放ESD保护结构及含有其的芯片,ESD保护结构包括:衬底;衬底上并排的第一至第六阱区;第一阱区中的第一第一类型掺杂区、第一第二类型掺杂区和第一第二类型栅氧区;第二阱区中的第七第二类型掺杂区、第七第一类型掺杂区和第二第一类型栅氧区和第八第一类型掺杂区;第一和第二阱区交接处的第二第二类型掺杂区;第三阱区中的第三第一类型掺杂区;第四阱区中的第四第二类型掺杂区;第五阱区中的第八第二类型掺杂区、第二第二类型栅氧区、第九第二类型掺杂区和第九第一类型掺杂区;第六阱区中的第六第一类型掺杂区、第六第二类型掺杂区和第一第一类型栅氧区;第五和第六阱区交接处的第五第一类型掺杂区。其具有理想的ESD保护效果和低闩锁风险。
申请公布号 CN206040643U 申请公布日期 2017.03.22
申请号 CN201620932043.8 申请日期 2016.08.24
申请人 比亚迪股份有限公司 发明人 赵振威
分类号 H01L27/02(2006.01)I 主分类号 H01L27/02(2006.01)I
代理机构 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人 张大威
主权项 一种静电释放ESD保护结构,其特征在于,包括:衬底;并排形成在所述衬底之上的第一至第六阱区;设置在所述第一阱区之中的第一第一类型掺杂区、第一第二类型掺杂区和第一第二类型栅氧区;设置在所述第二阱区中的第七第二类型掺杂区、第七第一类型掺杂区和第二第一类型栅氧区和第八第一类型掺杂区;设置在所述第一阱区和第二阱区交接处的第二第二类型掺杂区;设置在所述第三阱区之中的第三第一类型掺杂区;设置在所述第四阱区之中的第四第二类型掺杂区;设置在所述第五阱区之中的第八第二类型掺杂区、第二第二类型栅氧区、第九第二类型掺杂区和第九第一类型掺杂区;设置在所述第六阱区之中的第六第一类型掺杂区、第六第二类型掺杂区和第一第一类型栅氧区;设置在所述第五阱区和第六阱区交接处的第五第一类型掺杂区。
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