| 摘要 |
【課題】マスクを所定の偏光状態の照明光で照明する際の光量損失を少なくできる照明光学装置及び投影露光装置を提供する。【解決手段】レチクルＲを照明光ＩＬで照明する照明光学系ＩＬＳと、レチクルＲのパターンの像をウエハＷ上に投影する投影光学系とを有する。照明光学系ＩＬＳにおいて、露光光源１から直線偏光状態で射出された照明光ＩＬは、進相軸の方向が異なる第１及び第２の複屈折部材１２、１３を通過して、ほぼ特定の輪帯状の領域で光軸を中心とする円周方向に実質的に直線偏光となる偏光状態に変換された後、フライアイレンズ１４等を経てレチクルＲを輪帯照明の条件で照明する。【選択図】図１ |
