发明名称 半導体装置の作製方法
摘要 【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置に安定した電気的特性を付与し、高信頼性化することを目的の一とする。【解決手段】第1の絶縁膜を形成し、第1の絶縁膜上に、ソース電極およびドレイン電極、ならびに、ソース電極およびドレイン電極と電気的に接続する酸化物半導体膜を形成し、酸化物半導体膜に熱処理を行って、酸化物半導体膜中の水素原子を除去し、水素原子が除去された酸化物半導体膜上に、第2の絶縁膜を形成し、第2の絶縁膜に酸素ドープ処理を行って、第2の絶縁膜中に酸素原子を供給し、第2の絶縁膜上の酸化物半導体膜と重畳する領域にゲート電極を形成する半導体装置の作製方法である。【選択図】図2
申请公布号 JP2017055123(A) 申请公布日期 2017.03.16
申请号 JP20160203307 申请日期 2016.10.17
申请人 株式会社半導体エネルギー研究所 发明人 山崎 舜平
分类号 H01L29/786;G09F9/00;G09F9/30;H01L21/28;H01L21/336;H01L21/8242;H01L27/108;H01L27/115;H01L27/146;H01L29/417;H01L29/423;H01L29/49;H01L29/788;H01L29/792 主分类号 H01L29/786
代理机构 代理人
主权项
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