发明名称 パターン形成方法
摘要 【課題】ホール径の異なる複数のパターンを容易に形成することができるパターン形成方法を提供する。【解決手段】パターン形成方法は、被加工膜上の第1領域R1に自己組織化材料が相分離可能な幅を有する第1開口幅の第1ホールパターン105aを含み、かつ、該被加工膜上の第2領域R2に前記第1開口幅よりも幅が広い第2開口幅の第2ホールパターン105bおよび第1開口幅よりも幅が小さい幅の第3ホールパターン105cを含むマスク材を形成する。次に、マスク材上に自己組織化材料を供給する。次に、3パターン内の自己組織化材料を相分離させずに、第1および第2ホールパターン内の自己組織化材料を第1ポリマー部107a、107bと第2ポリマー部108a、108bとに相分離させる。第1ポリマー部を残存させつつ第2ポリマー部を除去してホールパターンを形成する。マスク材および第1ポリマー部をマスクとして用いて被加工膜を加工する。【選択図】図5
申请公布号 JP2017055021(A) 申请公布日期 2017.03.16
申请号 JP20150179289 申请日期 2015.09.11
申请人 株式会社東芝 发明人 川西 絢子;笠原 佑介;米満 広樹
分类号 H01L21/3065;H01L21/027 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
主权项
地址