发明名称 デバイスの製造方法
摘要 【課題】金属膜を有する基板の切断に起因する製品歩留りの低下を抑制するデバイスの製造方法を提供する。【解決手段】実施形態のデバイスの製造方法は、第1の面と第2の面を有する基板の第2の面上に非金属膜を形成し、第2の面が露出するよう非金属膜の一部を除去し、第2の面上及び非金属膜上に非金属膜よりも膜厚の薄い金属膜を形成し、非金属膜が露出するよう非金属膜上の金属膜を除去し、第2の面が露出するよう非金属膜を金属膜に対して選択的に除去し、露出した第2の面に沿って基板を切断する。【選択図】図5
申请公布号 JP2017055013(A) 申请公布日期 2017.03.16
申请号 JP20150179158 申请日期 2015.09.11
申请人 株式会社東芝 发明人 江崎 朗
分类号 H01L21/301 主分类号 H01L21/301
代理机构 代理人
主权项
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