发明名称 Herstellungsverfahren für eine Aufnahmestruktur für Gitterelemente
摘要 Eine Mehrzahl von Bragg-Gittern ist an vorgegebenen Stellen eines Laminats ausgebildet, das ein Aufnahmesubstrat, eine Beschichtungsschicht, die auf dem Aufnahmesubstrat bereitgestellt ist, und eine optische Materialschicht umfasst, die auf der Beschichtungsschicht ausgebildet ist. Es sind Lichtwellenleiter ausgebildet, die jeweils mindestens jedes der Bragg-Gitter umfassen. Es sind Masken ausgebildet, die jeweils einen Bereich bedecken, der jedem der Gitterelemente auf der optischen Materialschicht entspricht. Die optische Materialschicht und die Beschichtungsschicht werden zum Formen einer Endfläche jedes der Gitterelemente geätzt.
申请公布号 DE112015002127(T5) 申请公布日期 2017.03.16
申请号 DE20151102127T 申请日期 2015.04.22
申请人 NGK Insulators, Ltd. 发明人 Asai, Keiichiro;Yamaguchi, Shoichiro;Kondo, Jungo;Okada, Naotake;Ejiri, Tetsuya
分类号 G02B6/136;G02B5/18;G02B6/124;G02B6/132 主分类号 G02B6/136
代理机构 代理人
主权项
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