| 摘要 |
【課題】平坦性の良好な比較的厚い膜を形成することができる回転塗布方法および電子部品の製造方法を提供する。【解決手段】本実施形態による回転塗布方法は、下地材料上に第１材料膜を形成することを具備する。第１材料膜の上面上に第２材料膜の溶液を供給しながら下地材料を回転させて第１材料膜の上面上に溶液を滞留させる。下地材料の回転を停止または１０ｒｐｍ以下に減速する。下地材料の回転を停止してから第１期間の経過後、下地材料を回転させて、または、下地材料の回転を減速してから第１期間の経過後、増速させて第１材料膜の上面上にある溶液を振り落とす。【選択図】図４ |
