发明名称 ガス分離膜形成方法
摘要 【課題】多孔質支持体の表面に分離層の原料液を塗布するにあたり、細孔内への原料液の過剰な浸み込みを抑制し、薄く且つ均一な分離層を形成することが可能なガス分離膜形成方法を提供する。【解決手段】柱状の支持体にガス分離膜を形成するガス分離膜形成方法であって、支持体は、連通孔が形成された多孔質内部構造と、多孔質内部構造を筒状に包囲する通気性外側面とを備えるものであり、通気性外側面をシールするシール工程(S1)と、多孔質内部構造にガス分離膜の原料液を塗布する塗布工程(S2)と、塗布工程が完了した支持体を乾燥させる乾燥工程(S3)と、乾燥工程が完了した支持体の通気性外側面のシールを解除する解除工程(S4)と、解除工程が完了した支持体を加熱する熱処理工程(S5)と、を包含する。【選択図】図1
申请公布号 JP2017051932(A) 申请公布日期 2017.03.16
申请号 JP20150179771 申请日期 2015.09.11
申请人 東洋ゴム工業株式会社 发明人 小山 昭洋
分类号 B01D67/00;B01D63/06;B01D69/10;B01D71/02 主分类号 B01D67/00
代理机构 代理人
主权项
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