发明名称 光増感化学増幅レジストで酸ショットノイズとして複製されるEUVショットノイズの軽減
摘要 光増感化学増幅レジスト(PS−CAR)の極紫外(EUV)リソグラフィおよびパターニングにおいてショットノイズを軽減する方法が記載されている。本方法は、光増感剤を生成するための第1のEUVパターン露光と、第1のEUVパターン露光時に露光された領域で酸を生成するための、第1のEUVパターン露光の波長と異なる波長での第2のフラッド露光と、を含み、光増感剤は、酸の生成を増幅し、且つ、コントラストを改善するように作用する。第1のEUVパターン露光時に生じ得る光増感剤濃度に及ぼすEUVショットノイズの影響を軽減するために、レジストを熱、液体溶媒、溶媒雰囲気、または真空に暴露し得る。
申请公布号 JP2017507360(A) 申请公布日期 2017.03.16
申请号 JP20160553436 申请日期 2015.02.23
申请人 東京エレクトロン株式会社;トーキョー エレクトロン ユーエス ホールディングス,インコーポレーテッド 发明人 カーカシ,マイケル エー;ソマーヴェル,マーク エイチ
分类号 G03F7/20;G03F7/38;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
地址