发明名称 |
光増感化学増幅レジストで酸ショットノイズとして複製されるEUVショットノイズの軽減 |
摘要 |
光増感化学増幅レジスト(PS−CAR)の極紫外(EUV)リソグラフィおよびパターニングにおいてショットノイズを軽減する方法が記載されている。本方法は、光増感剤を生成するための第1のEUVパターン露光と、第1のEUVパターン露光時に露光された領域で酸を生成するための、第1のEUVパターン露光の波長と異なる波長での第2のフラッド露光と、を含み、光増感剤は、酸の生成を増幅し、且つ、コントラストを改善するように作用する。第1のEUVパターン露光時に生じ得る光増感剤濃度に及ぼすEUVショットノイズの影響を軽減するために、レジストを熱、液体溶媒、溶媒雰囲気、または真空に暴露し得る。 |
申请公布号 |
JP2017507360(A) |
申请公布日期 |
2017.03.16 |
申请号 |
JP20160553436 |
申请日期 |
2015.02.23 |
申请人 |
東京エレクトロン株式会社;トーキョー エレクトロン ユーエス ホールディングス,インコーポレーテッド |
发明人 |
カーカシ,マイケル エー;ソマーヴェル,マーク エイチ |
分类号 |
G03F7/20;G03F7/38;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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