| 摘要 |
【課題】電圧印加により導波路のコア部の屈折率を設定した後は、電圧印加を継続することなく、設定した屈折率を保持することができる光位相シフタを提供する。【解決手段】光位相シフタ２０では、コア部３０は、オーバークラッド２３とアンダークラッド２２に囲まれている。コア部３０は、Ｎ型シリコン３１、厚い下側絶縁膜３２、電荷保持層３３、薄い上側絶縁膜３４、Ｐ型シリコン３５を、この順に形成した積層構造になっている。Ｐ型シリコン３５に負の高電圧を印加し、自由電子量または正孔量を変化させることにより屈折率を変化させ、その後、印加電圧を取り除いても、変化させた屈折率を保持できる。【選択図】図１ |
