| 摘要 |
【課題】 本発明は、ステージ制御の精度が低下することを抑制するリソグラフィ装置を提供することを目的とする。【解決手段】 パターンを基板上に形成するリソグラフィ装置は、原版または基板を搭載して移動する移動部と、前記移動部の位置に関する情報を計測し、互いの計測領域が重複する複数の計測部と、前記重複する計測領域にある切替え位置に基づいて、前記移動部の計測に使用する計測部を切替える制御部と、を有し、前記制御部は、前記原版または前記基板にある複数の処理対象について、１つの前記処理対象に対して複数の処理を行う場合に、前記切替え位置を可変として、前記複数の処理では、同一の前記計測部を使用するように前記計測部を制御する。【選択図】 図４ |
