发明名称 ナノインプリントリソグラフィーにおける充填時間を短縮するための基板の前処理
摘要 【課題】ナノインプリントリソグラフィープロセスにおけるスループットを促進することを目的とする。【解決手段】本発明のナノインプリントリソグラフィー方法は、前処理組成物を基板上に配置して前記基板上に前処理コーティングを形成する工程と、前記前処理コーティング上に、インプリントレジストの不連続部分を配置する工程と、前記インプリントレジストの各不連続部分がその標的域を超えて広がることで、前記前処理組成物と前記インプリントレジストとの混合物を含む複合重合性コーティングを前記基板上に形成する工程と、前記複合重合性コーティングをテンプレートと接触させる工程と、前記複合重合性コーティングを重合させ前記基板上に複合重合層を得る工程と、を有し、前記前処理組成物と空気との間の界面エネルギーが、前記インプリントレジストと空気との間の界面エネルギーよりも大きいことを特徴とする。【選択図】図4
申请公布号 JP2017055108(A) 申请公布日期 2017.03.16
申请号 JP20160154767 申请日期 2016.08.05
申请人 キヤノン株式会社 发明人 ニャーズ クスナトディノフ;ティモシー スタコウィアック;ウェイジュン リウ
分类号 H01L21/027;B29C59/02 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
地址