| 摘要 |
【課題】共存する二種類のコンタクトホールに起因する電流集中を抑制する。【解決手段】エミッタ領域５０は、トレンチと直交するストライプ状であって、基板上面の第１範囲では第１間隔Ｐ１で形成され、第２範囲では第１間隔よりも広い第２間隔で形成されている。第１コンタクトホールは、第１幅でトレンチと平行に伸びる開口形状を有し、第１範囲上でボディ領域４８とエミッタ領域とを交互に露出する。第２コンタクトホール２４は、第１幅よりも広い第２幅の開口形状を有し、第２範囲上でピラー領域を露出する。上面電極１２は、第１コンタクトホール内に位置するコンタクトプラグと、第２コンタクトホール２４内でピラー領域とショットキー接触する電極層とを有する。平面視したときに、第１範囲と第２範囲との境界に位置するエミッタ領域から、第２範囲へ突出する第１コンタクトホールの突出長さＬは、第１間隔の１／２以上である。【選択図】図１０ |
