| 摘要 |
【課題】カソード電極の表面にプロセスガスを均一に供給できるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】垂直に保持された基板が格納されるチャンバーと、互いに対向する２つの主面及び２つの主面を連結する下面を有し、主面が基板と対向するようにチャンバーの内部に配置されたカソード電極と、プロセスガスを噴き出す噴出孔がカソード電極の下面と対向しないように設けられた、カソード電極の下方に配置されて基板と主面との間にプロセスガスを導入するノズルヘッドと、基板とカソード電極との間に電力を供給して、基板とカソード電極との間においてプロセスガスをプラズマ状態にする電源と、チャンバーの内部のプロセスガスをチャンバーの上部から外部に排出する排気装置とを備える。【選択図】図１ |
