发明名称 原料ガス供給装置、成膜装置、流量の測定方法及び記憶媒体
摘要 【課題】混合ガス中の原料の濃度が変化しても当該原料の流量を測定することが可能な原料ガス供給装置等を提供する。【解決手段】原料ガス供給装置は、基板Wに成膜を行う成膜装置に原料の濃度変化を伴う原料ガスを供給し、キャリアガス供給部41は原料300を収容し、加熱部と圧力調節部とを備える原料容器2に対してキャリアガスを供給し、第1の流量測定部42は、キャリアガスの流量測定値を出力する。原料容器3にて気化した原料を含む原料ガスは、原料ガス供給路210を介して成膜装置に供給され、キャリアガスにより校正され、原料ガスの全量を通流させる細管に設けた抵抗体の抵抗値により流量測定値を得る流量計からなる第2の流量測定部2は、この原料ガスの流量測定値を出力する。流量演算部51は、第1の流量測定部42にて得られた流量測定値と、第2の流量測定部2にて得られた流量測定値との差分値を原料の流量に換算する。【選択図】図2
申请公布号 JP2017053039(A) 申请公布日期 2017.03.16
申请号 JP20160227726 申请日期 2016.11.24
申请人 東京エレクトロン株式会社 发明人 井上 三也;高堂 真;安藤 厚司
分类号 C23C16/448;C23C16/52;G01F1/00;G01F1/48;G01F1/684;H01L21/31;H01L21/316 主分类号 C23C16/448
代理机构 代理人
主权项
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