一种离子镀膜机

摘要

本实用新型公开了一种离子镀膜机，包括真空室、小多弧源、电磁控大面积弧源、多功能旋转靶台、工件、柱弧靶、热偶探头和自动引弧器，柱弧靶设置在镀膜机的中轴线上，并且柱弧靶设置在真空室的中间位置，在真空室的左右两侧分别对称设置有2个小多弧源和2个电磁控大面积弧源，小多弧源设置在2个电磁控大面积弧源上方，多功能旋转靶台设置在真空室底部，工件架设在多功能旋转靶台上，热偶探头设置在真空室的右侧，并且半插入进真空室，自动引弧器设置在真空室左侧，本实用新型设计合理，使用方便，成本低，效率高，运行可靠，降低了工人的劳动强度，膜层质量好，有很好的应用前景。

主权项

一种离子镀膜机，包括真空室、小多弧源、电磁控大面积弧源、多功能旋转靶台、工件、柱弧靶、热偶探头和自动引弧器，其特征在于：柱弧靶设置在镀膜机的中轴线上，并且柱弧靶设置在真空室的中间位置，在真空室的左右两侧分别对称设置有2个小多弧源和2个电磁控大面积弧源，小多弧源设置在2个电磁控大面积弧源上方，多功能旋转靶台设置在真空室底部，工件架设在多功能旋转靶台上，热偶探头设置在真空室的右侧，并且半插入进真空室，自动引弧器设置在真空室左侧。