| 发明名称 | 基板处理装置和基板处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。该基板处理装置用于一边利用旋转台使基板公转一边对该基板供给处理气体来进行处理，其中，其以包括如下构件的方式构成装置：旋转台，其设于处理容器内；旋转机构，其用于使所述旋转台旋转；支承部，其在所述旋转台的下方侧设于所述旋转台的旋转轴；开口部，其与基板的载置位置相对应地形成于所述旋转台；载置部，其借助所述开口部以自转自由的方式支承于所述支承部，用于以基板的上表面的高度位置与所述旋转台的上表面的高度位置对齐的方式载置基板；自转机构，其用于使所述载置部自转。 | ||
| 申请公布号 | CN106505014A | 申请公布日期 | 2017.03.15 |
| 申请号 | CN201610809549.4 | 申请日期 | 2016.09.08 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 加藤寿;大泉行雄;本间学 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I;H01L21/687(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;张会华 |
| 主权项 | 一种基板处理装置，其用于一边使基板公转一边对该基板供给处理气体来进行处理，其中，该基板处理装置包括：旋转台，其设于处理容器内；旋转机构，其用于使所述旋转台旋转；支承部，其在所述旋转台的下方侧设于所述旋转台的旋转轴；开口部，其与基板的载置位置相对应地形成于所述旋转台；载置部，其经由所述开口部以自转自由的方式支承于所述支承部，用于以基板的上表面的高度位置与所述旋转台的上表面的高度位置对齐的方式载置基板；自转机构，其用于使所述载置部自转。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||