发明名称 一种具有浮岛结构的沟槽型二极管
摘要 本发明属于功率半导体器件技术领域,涉及一种具有浮岛结构的沟槽型二极管。本发明的沟槽型二极管,其特征在于,在沟槽中设置有第一N型半导体掺杂区、浮空P岛和第二N型半导体掺杂区;所述第二N型半导体掺杂区位于沟槽的侧壁与栅氧化层相连;所述浮空P岛位于第二N型半导体掺杂区之间;所述第一N型半导体掺杂区位于第二N型半导体掺杂区和浮空P岛的顶部,并与阳极相连。本发明的有益效果为,可在同样的电流密度下实现更低的正向压降,器件在高温下的可靠性更好。本发明尤其适用于沟槽型二极管。
申请公布号 CN104393055B 申请公布日期 2017.03.15
申请号 CN201410629077.5 申请日期 2014.11.10
申请人 电子科技大学 发明人 李泽宏;伍济;刘永;陈钱;郭绪阳
分类号 H01L29/861(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I 主分类号 H01L29/861(2006.01)I
代理机构 成都宏顺专利代理事务所(普通合伙) 51227 代理人 李玉兴
主权项 一种具有浮岛结构的沟槽型二极管,包括N型半导体衬底(7)、位于N型半导体衬底(7)底部的阴极(8)、位于N型半导体衬底(7)上层的N型半导体漂移区(6)、位于N型半导体漂移区(6)上层的栅氧化层(2)和位于栅氧化层(2)上层的阳极(1);所述栅氧化层(2)为沟槽型结构;其特征在于,在相邻两个沟槽的栅氧化层(2)之间设置有第一N型半导体掺杂区(3)、浮空P岛(4)和第二N型半导体掺杂区(5);所述第二N型半导体掺杂区(5)位于沟槽的侧壁与栅氧化层(2)相连;所述浮空P岛(4)位于沟槽两侧的第二N型半导体掺杂区(5)之间;所述第一N型半导体掺杂区(3)位于第二N型半导体掺杂区(5)和浮空P岛(4)的顶部,并与阳极(1)相连。
地址 611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号