| 发明名称 | 光耦合装置 | ||
| 摘要 | 本发明的实施方式提供一种能够一边缓和作用于发光元件的应力一边提升发光元件的光利用效率的光耦合装置。实施方式的光耦合装置具备：发光元件；光接收元件，与发光元件对向；引线框架，具有设置有发光元件的第1面、及与第1面对向的第2面；第1覆盖构件，将发光元件覆盖；第2覆盖构件，将第1覆盖构件、光接收元件、及引线框架覆盖；及第3覆盖构件，将第2覆盖构件覆盖，且第2覆盖构件与第3覆盖构件的第1粘接强度和第2覆盖构件与第2面的第2粘接强度中的至少一个粘接强度低于第1覆盖构件与第2覆盖构件的第3粘接强度。 | ||
| 申请公布号 | CN106501905A | 申请公布日期 | 2017.03.15 |
| 申请号 | CN201610115546.0 | 申请日期 | 2016.03.01 |
| 申请人 | 株式会社东芝 | 发明人 | 村中哲也 |
| 分类号 | G02B6/42(2006.01)I;H01L25/16(2006.01)I;H01L33/56(2010.01)I | 主分类号 | G02B6/42(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人 | 张世俊 |
| 主权项 | 一种光耦合装置，其特征在于具备：发光元件；光接收元件，与所述发光元件对向；引线框架，具有设置有所述发光元件的第1面、及与所述第1面对向的第2面；第1覆盖构件，将所述发光元件覆盖；第2覆盖构件，将所述第1覆盖构件、所述光接收元件、及所述引线框架覆盖；及第3覆盖构件，将所述第2覆盖构件覆盖，且所述第2覆盖构件与所述第3覆盖构件的第1粘接强度和所述第2覆盖构件与所述第2面的第2粘接强度中的至少一个粘接强度低于所述第1覆盖构件与所述第2覆盖构件的第3粘接强度。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||