| 发明名称 | 一种多层堆积的金属遮光薄膜及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种多层堆积的金属遮光薄膜及其制备方法。本发明的金属遮光薄膜包括交替涂覆在器件晶圆上的至少一个金属铝薄膜和至少一个金属钨薄膜叠加形成；所述金属遮光薄膜的总厚度为2000～4000埃米。本发明的方法改变了现有金属遮光薄膜的结构，通过将较厚的遮光薄膜分为较薄的多层薄膜结构，在保证优良遮光效果的前提下，又抑制了因薄膜应力过大而导致的分层问题，提高了光学器件的性能。 | ||
| 申请公布号 | CN103943643B | 申请公布日期 | 2017.03.15 |
| 申请号 | CN201410170928.4 | 申请日期 | 2014.04.25 |
| 申请人 | 武汉新芯集成电路制造有限公司 | 发明人 | 洪齐元;黄海 |
| 分类号 | H01L27/146(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/146(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人 | 杨立 |
| 主权项 | 一种多层堆积的金属遮光薄膜，其特征在于：包括交替涂覆在器件晶圆上的至少一个金属铝薄膜和至少一个金属钨薄膜；所述金属遮光薄膜的总厚度为2000～4000埃米；所述至少一个金属铝薄膜的厚度范围为500～2000埃米；所述至少一个金属钨薄膜的厚度范围为500～2000埃米。 | ||
| 地址 | 430205 湖北省武汉市东湖开发区高新四路18号 | ||