发明名称 平面阵列天线电扫波束形状控制方法
摘要 本发明公布了一种平面阵列天线电扫波束形状控制方法,针对传统阵列天线波束在电扫描时变形的缺陷,通过优化阵列中各天线单元的激励相位值达到控制变形的扫描波束的目的。本发明不仅能够提高平面阵列天线的扫描精度,而且通用性好,不依赖平面阵列天线的阵元类型以及特定的扫描波束形状。
申请公布号 CN104409853B 申请公布日期 2017.03.15
申请号 CN201410710401.6 申请日期 2014.11.27
申请人 中国船舶重工集团公司第七二四研究所 发明人 丛友记;简玲;黄彩华;陈文俊
分类号 H01Q3/30(2006.01)I 主分类号 H01Q3/30(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种平面阵列天线电扫波束形状控制方法,其特征在于包含以下步骤:第一步:已知A‑E坐标下未扫描的波束形状数据F<sub>0</sub>(A,E)以及天线波束方位、俯仰扫描角(As,Es);第二步:以波束形状数据F<sub>0</sub>(A,E)以及天线波束方位、俯仰扫描角(As,Es),构造A‑E坐标系下的天线未变形扫描波束P<sub>0</sub>(A,E);第三步:将P<sub>0</sub>(A,E)按照公式<img file="FDA0001208287020000011.GIF" wi="427" he="134" />变换成U‑V坐标系下的波束P<sub>0</sub>(U,V);第四步:以波束P<sub>0</sub>(U,V)为目标,采用优化算法优化阵列单元的激励相位,得到修正的波束P<sub>1</sub>(U,V);第五步:将P<sub>1</sub>(U,V)按照公式<img file="FDA0001208287020000012.GIF" wi="507" he="143" />变换成A‑E坐标系下的优化波束P<sub>1</sub>(A,E)。
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