发明名称 |
一种全反射X射线荧光分析装置 |
摘要 |
本实用新型公开了一种全反射X射线荧光分析装置,包括:样品载物台、X射线管与探测器及吹扫机构。所述样品载物台用于放置待测样品。所述X射线管用于向所述样品载物台发射X射线,所述探测器用于接收经过所述待测样品反射出的X荧光。所述吹扫机构用于将抗干扰气体吹向所述样品载物台。上述的全反射X射线荧光分析装置,当X射线管向样品载物台上的待测样品发射X射线时,通过吹扫机构将抗干扰气体吹向样品载物台,这样抗干扰气体便可以将待测样品外围环境中的气体驱离,能避免X射线将对试验结果产生影响的元素激发,从而便可以保证待测元素的检测结果的准确性。 |
申请公布号 |
CN206020313U |
申请公布日期 |
2017.03.15 |
申请号 |
CN201621048659.5 |
申请日期 |
2016.09.09 |
申请人 |
广州市怡文环境科技股份有限公司 |
发明人 |
石平;何广田 |
分类号 |
G01N23/223(2006.01)I |
主分类号 |
G01N23/223(2006.01)I |
代理机构 |
广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 |
代理人 |
周修文 |
主权项 |
一种全反射X射线荧光分析装置,其特征在于,包括:样品载物台,所述样品载物台用于放置待测样品;X射线管与探测器,所述X射线管用于向所述样品载物台发射X射线,所述探测器用于接收经过所述待测样品反射出的X荧光;及吹扫机构,所述吹扫机构用于将抗干扰气体吹向所述样品载物台。 |
地址 |
510730 广东省广州市经济技术开发区南云三路12号 |