衬底处理设备

摘要

本发明涉及一种衬底处理设备，并且更确切地说，涉及一种通过使用感应线圈来产生等离子体的衬底处理设备。所提供的是一种衬底处理设备。衬底处理设备包含：腔室，其经配置以容纳衬底并且提供衬底处理空间；处理气体供应单元，其经配置以将处理气体供应到腔室中；感应线圈，其设置在腔室的至少一部分的外部；以及电源单元，其连接到感应线圈的两端之间的中心区域，并且通过中心区域对感应线圈施加功率。本发明的衬底处理设备能够减少对衬底的损害并且提高衬底处理的均匀性。

主权项

一种衬底处理设备，其特征在于包括：腔室，其经配置以容纳衬底并且提供衬底处理空间；处理气体供应单元，其经配置以将处理气体供应到所述腔室中；感应线圈，其设置在所述腔室的至少一部分的外部；以及电源单元，其连接到所述感应线圈的两端之间的中心区域，并且通过所述中心区域对所述感应线圈施加功率。